【中微公司｜设备龙一 重点推荐】ICP&CCP刻蚀机份额提升明显，大马士革和极高深宽比刻蚀机空间广阔

【中微公司｜设备龙一 重点推荐】ICP&CCP刻蚀机份额提升明显，大马士革和极高深宽比刻蚀机空间广阔

?刻蚀龙一，高速成长可期：ICP和CCP刻蚀机份额提升明显，大马士革和极高深宽比刻蚀机即将进入市场。

（1）某大型逻辑厂份额：CCP从不到20% 将提升到60%以上；ICP从0%将提升到75%以上。

（2）某大型存储厂份额：CCP从33%左右将提升到85%以上；ICP从不到10%将提升到65%。

（3）针对逻辑厂的大马士革刻蚀机和针对存储厂的极高深宽比刻蚀即将进入市场。

?薄膜沉积和量测深度布局：LPCVD及锗硅外延EPI设备进展喜人，ALD设备持续开发中，前道设备厂商睿励持股比例提升至34.75%。

（1）公司首台 CVD 钨设备关键存储客户验证，持续开发新型号 CVD 钨和 ALD 钨设备，ALD 氮化钛设备进入实验室测试阶段，锗硅外延EPI 设备处于调试阶段。

（2）22 年增资睿励 1.08 亿元，并以 0.43 亿元的对价受让睿励老股东转让的部分股权，目前累计投资约 2.51 亿元并持有 34.75%的股份。

?公司是国内刻蚀设备和MOCVD设备的领军企业，ICP&CCP刻蚀机在头部晶圆厂份额提升明显，将极大受益于晶圆厂扩张带来的增量。22年全球刻蚀设备市场规模1550亿元，国内占比20%约310亿元，未来中微国内70%的份额对应220亿元收入，25%净利率对应净利润约55亿元，刻蚀业务目标市值1700亿元，叠加薄膜沉积等业务布局合计目标市值2000亿元，较目前1200亿元市值仍有巨大成长空间，维持重点推荐。